IP防尘防水等级检测介绍

              IP防尘防水等级检测介绍

IP是Ingress Protection的缩写，IP等级是针对电气设备外壳对异物侵入的防护等级，来源是国际电工委员会的标准IEC 60529，这个标准在2004年也被采用为美国国家标准。
在这个标准中，针对电气设备外壳对异物的防护，IP等级的格式为IPXX，其中XX为两个阿拉伯数字，**标记数字表示接触保护和外来物保护等级，第二标记数字表示防水保护等级，具体的防护等级可以参考下面的表格。

以下是测试的不同等级：

防尘等级

IP1 x
防护50mm直径和更大的固体外来体探测器，球体直径为50mm,不应完全进入
IP2 x
防护12.5mm直径和更大的固体外来体探测器，球体直径为12.5mm,不应完全进入
IP3 x
防护2.5mm直径和更大的固体外来体探测器，球体直径为2.5mm,不应完全进入
IP4 x
防护1.0mm直径和更大的固体外来体探测器，球体直径为1.0mm,不应完全进入
IP5 x
防护灰尘不可能完全阻止灰尘进入，但灰尘进入的数量不会对设备造成伤害
IP6 x
灰尘封闭柜体内在20毫巴的低压时不应进入灰尘

防水等级 (第二个X表示)
（1）IPx 1
方法名称：垂直滴水试验
试验设备：滴水试验装置
试样放置：按试样正常工作位置摆放在以 1r/min 的旋转样品台上，样品顶部至滴水口的距离不大于 200mm
试验条件：滴水量为 10.5 mm/min
持续时间：10 min
（2）IPx 2
方法名称：倾斜 15°滴水试验
试验设备：滴水试验装置
试样放置：使试样的一个面与垂线成 15°角，样品顶部至滴水口的距离不大于 200mm 。每试验完一个面后，换另一个面，共四次。
试验条件： 滴水量为 30.5 mm/min
持续时间： 4×2.5 min（ 共10 min ）
（3）IPx 3
方法名称：淋水试验
试验方法：
a。 摆管式淋水试验
试验设备：摆管式淋水溅水试验装置
试样放置：选择适当半径的摆管，使样品台面高度处于摆管直径位置上，将试样放在样台上，使其顶部到样品喷水口的距离不大于 200mm ，样品台不旋转。
试验条件：水流量按摆管的喷水孔数计算，每孔为 0.07 L/min ，淋水时，摆管中点两边各 60° 弧段内的喷水孔的喷水喷向样品。被试样品放在摆管半圆中心。摆管沿垂线两边各摆动 60°，共 120°。每次摆动( 2×120°) 约 4
试验时间：连续淋水 10 min
b。 喷头式淋水试验
试验设备：手持式淋水溅水试验装置
试样放置：使试验顶部到手持喷头喷水口的平行距离在 300mm 至 500mm 之间
试验条件：试验时应安装带平衡重物的挡板，水流量为 10 L/min
试验时间：按被检样品外壳表面积计算，每平方米为 1 min (不包括安装面积)，最少 5 min
（4）IPx 4
方法名称：溅水试验
试验方法：
a．摆管式溅水试验
试验设备和试样放置：与上述 IPX 3 之 a 款均相同；
试验条件: 除后述条件外，与上述 IPX 3 之 a 款均相同；喷水面积为摆管中点两边各 90°弧段内喷水孔的喷水喷向样品。被试样品放在摆管半圆中心。摆管沿垂线两边各摆动 180°，共约 360°。每次摆动 ( 2×360°) 约 12s
试验时间： 与上述 IPX 3 之 a 款均相同 ( 即10 min )。
b．喷头式溅水试验
试验设备和试样放置：与上述 IPX 3 之 b 款均相同；
试验条件：拆去设备上安装带平衡重物的挡板，其余与上述 IPX 3 之 b 款均相同；
试验时间：与上述 IPX 3 之 b 款均相同， 即按被检样品外壳表面积计算，每平方米为 1 min (不包括安装面积) 最少 5min
（5）IPx 5
方法名称：喷水试验
试验设备：喷嘴的喷水口内径为 6.3mm
试验条件：使试验样品至喷水口相距为 2.5m ～ 3m ，水流量为 12.5 L/min ( 750 L/h )
试验时间：按被检样品外壳表面积计算，每平方米为 1 min (不包括安装面积) 最少 3 min
（6）IPx 6
方法名称：强烈喷水试验；
试验设备：喷嘴的喷水口内径为 12.5 mm
试验条件：使试验样品至喷水口相距为 2.5m ～ 3m ，水流量为 100 L/min ( 6000 L/h )
试验时间：按被检样品外壳表面积计算，每平方米为 1 min（不包括安装面积）最少 3 min
（7）IPx 7
方法名称：短时浸水试验
试验设备和试验条件：浸水箱。其尺寸应使试样放进浸水箱后，样品底部到水面的距离至少为 1m 。试样顶部到水面距离至少为 0.15m
试验时间: 30 min
（8）IPx 8
方法名称: 持续潜水试验；
试验设备,试验条件和试验时间: 由供需（买卖）双方商定，其严酷程度应比 IPX 7 高。